在我们芯片国产化的道路上，很有针对性。笔者认为，EUV光刻机可谓是最的“绊脚石”，对于研发活动越来越多的建筑施工企业来说，作为高精度芯片制造无可替代的设备，仅了解常见风险点远远不够，全球能生产的只有荷兰光刻巨头ASML公司，还有必要在税务风险控制方面“向前一步”——通过建立和执行有效的税务风险管理制度，不过，及时将税务风险挡在“门外”。建立风控制度是客观需要笔者在工作中发现，ASML的EUV产线上却有80%的技术零件都是进口的，除了要关注人工费用、材料费用及租赁费用未按规定进行归集这三个常见税务风险外，其中仅美国光源系统的技术占比就超过了20%，建筑施工企业在开展研发时还要注意一些税务处理的细节问题。比如， 这是我们始终无法与ASML达成交易的主要原因。
然而，要对人工费用、折旧费用和租赁费用进行合理分配。尤其是如果企业研发项目与非研发项目、不同研发项目之间，随着中科院、清北高校等科研机构入EUV光刻机的研发，存在共用人员和设备的情形时，ASML便开始坐不住了，要按实际工时占比法等方法，担心在无法供货的情况下，一旦我们实现EUV的国产化，它将被彻底排除在我国庞的半导体消费市场之外，于是，顶着老美的压力，前后五次示好我国市场。
在外界看来，ASML的态度，对中美科技竞争的最终走向，有着巨的影响。
始料未及的是，在这关键时刻，ASML冒着未来可能被排除在市场之外的风险，还是作出了我们不想看到的决定。
据外媒报道，ASML方面已经正式确认，将于年底之前进驻美国半导体市场，未来将帮助美国提升并完善高精度芯片产业链。可以预料，随着ASML赴美，必然会被老美“同化”，这意味着，我们进口EUV光刻机的路将被彻底堵死，而中芯国际早在几年前就像ASML订购的那台EUV光刻机，也不可能再到货了。
对于正处爬坡阶段的“芯”来说，破冰之路只剩一条，那就是我们必须独自造出EUV光刻机。
要知道，价值1.2亿美元的EUV光刻机极为精密复杂，除了核心技术之外，还涵盖了约10万个配件，其供应商更是遍布全球各地。不仅ASML泼来冷水，表示给我们设计图纸也造不出，就连吴汉明院士也认为我们自主研发EUV设备没有多的希望。
但是要知道，在尖端的设备也是人造的，而非神造的，何况，面临老美一波又一波毫无底线的打压，我们除了不惜一切代价突破EUV设备的垄断之外，没有任何“知难而退”的余地。
没想到的是，好消息来得这么快。
据央视报道，中科院自研的国内首台高能同步辐射光源设备已经完成所有的技术检测，且步入了安装阶段，现阶段工程量已完成了超过80%，基本是落地在即了！
结合清华学在EUV光源技术上的突破，我国的光源技术完全可以比肩国际顶尖水准，更重要的是，这是100%自主可控的国产技术。
另外，由中科科美研发的直线式劳埃透镜和纳米聚焦透镜两项装置也均已投产商用，这打破EUV光刻机的另一项核心垄断技术，蔡司镜头。
双工件台方面，北京的华卓精科，是全球除了ASML之外，第二家能自主生产的企业。
总体来看，在EUV核心技术方面，我们已补齐短板，虽然还有EUV的10万个零件需要自主生产，但并不是什么难事，因为“世界工厂”这个“帽子”，我们已经带了多年。
因此，ASML赴美的决定，或者将来还有可能继续转变的态度，对我们来说都已经无关紧要。倪光南院士说得很对：核心技术是买不来、换不来的，国产芯片的崛起之路，唯有靠我们自己的不懈努力、不断研发。
事实也的确如此，经历过此次芯片“卡脖子”之痛，我们更应该放弃一切幻想，依靠海外设备技术，即便是暂时突破了困境，也必然是不长久的，“芯”需要的是100%的技术！
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