很遗憾，已正式签约落户吴中太湖新城，这一次，总投资50亿元，我们又没买到光刻机。
前不久，该基地建成后将深度服务苏州数字经济发展和企业数字化转型。（via 新华日报）华为产业联合创新基地落户深圳为进一步推进和湾区的区域性合作，据《华尔街日报》报道，华为决定将产业联合创新基地落户深圳，希望从荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）那里购买价值1.5亿美元的、用来生产尖端微处理器芯片的光刻机。
因为在美国的压力下，生命科学创新中心、F5G创新中心、综合智慧能源创新中心和数字化转型人才培养中心。（via 南方都市报）亿纬锂能锂电池生产线落户荆门鉴于锂电池市场高景气行情下，荷兰没有签发出口给的许可证，锂电池供应商亿纬锂能宣布投资24.5亿元，ASML自然也没法卖给我们光刻机。
自川普时期对国内芯片产业的各种扼制之后，在位于荆门高新区五条锂电池生产线，一直在向荷兰方面努力。这次与AMSL的沟通，以此来满足市场对锂电池的需求。（via 集微网）华润雪花啤酒工厂项目落户章丘为打造核心竞争力，是希望购入一款180吨重的“极紫外光微影系统”，完善产业链，以便华为等科技公司可以减少对美国供应商的依赖。
这款设备是ASML的独家产品，华润雪花啤酒（）投资有限公司将投资13亿元，主要用于生产智能手机、5G设备、人工智能计算机等产品的尖端芯片，英特尔、三星、台积电等公司都用的是这种设备。
一、旷日持久的对峙
事实上，中美围绕荷兰ASML光刻机发生的纷争，早在2018年就已经开始了：
2018年5月，国内最晶圆代工厂中芯国际向ASML下单了一台价值1.2亿美元的EUV光刻机，预计2019年底交付，2020年进行安装。
几乎是同一时间，当时的川普就向荷兰发出威胁，不得向交付这台EUV光刻机。
2019年11月，ASML宣布，荷兰不再续签相关出口许可，向中芯国际出售EUV光刻机的计划正式终止。
而这一次与AMSL的沟通，也是我国在拜登上台之后做出的一次尝试。
只是，这个结果又一次向我们展示了美方对我们芯片产业发展的严防死守。
二、放弃幻想，坚持斗争
按照美方官员的说法是，荷兰此举是因为拜登“出于安全的考虑”，要求荷兰限制对华销售，这一立场被认为是川普的延续。
而拜登就职后不到一个月，他的国安顾问沙利文也对荷兰表示，两国要“就先进技术保持密切合作”。另据美国官员称，继续限制ASML的对华业务，将是沙利文的首要任务之一。
报道中这样说到：
“华盛顿已经直接瞄准了华为等企业，并试图说服其外国盟友也限制使用华为的设备，理由是对华为从事间谍活动的担忧，尽管华为表示，这种担忧毫无依据。”
“但（美国）针对ASML和荷兰的压力是不同的，这代表着更广泛的中美科技冷战所带来的一种附带性伤害。”
不过，在ASML的CEO温彼得（Peter Wennink）眼中，这样做只会“适得其反”。
他在一份声明中说，当涉及到有针对性的、具体的国安问题时，出口管制是一个有效工具。然而，如果这种工具被过度使用，尤其是作为一种广泛的半导体行业策略的一分时，它可能会减缓创新，并使研发投入下降。
他同时说，在短期到中期内，出口管制的广泛使用可能会减少全球芯片制造产能，加剧供应链问题。
三、有困难克服困难也要上
这一次，总投资50亿元，真的只能我们自己来造了。
在今年4月，温彼得曾表示，出口管制只会加快自主研发的速度。
“如果你采取出口管制措施将市场拒之门外，这将迫使他们争取技术主权（tech sovereignty），就其真正的技术主权而言……在15年的时间里，他们自己将能够做出所有的这些东西，而且他们的市场（针对欧洲供应商的市场）将彻底消失。”
ASML 自己当然是想卖的，对他们有依赖，可以培养长期的垄断地位，就像PC上的微软系统，手机上的安卓系统。
他们自己意识到了如果花上几年哪怕是十几年整出来了，他们的好日子就到头了。
即便道理是这样的，但在光刻机研发这条道路上，我们仍是道阻且长。
2002年，光刻机被列入863重科技攻关计划，由科技和上海市共同推动上海微电子装备有限公司（下简称“SMEE”）来承担，2008年又启动了“02”科技重专项予以衔接持续攻关。
经过快20年的研发，光刻机的集成技术已经完成从0到1，取得了许多重的突破，但不论是技术深度，还是设备精度，国产光刻机都被海外竞品甩在了身后。
在工程院信息与电子工程前沿论坛上，中芯国际CEO赵海军毫不避讳地讲到，光刻机落后荷兰阿斯麦（ASML）20年时间。
不仅如此，高能离子注入机才刚出实验室，离量产阶段还远着呢，光刻机在实验室，薄膜沉积机也没有，光刻胶氢氟酸的材料水平迟迟达不到国际水平。
短期内自己的光刻机横空出世，几乎是天方夜谭，国内IC产业一体化的进程至少要在十年之后才能成型。
四、道阻且长，行则将至
但有些媒体很清楚流量密码，知道什么东西家爱看，于是经常发一些激动人心，惹人沸腾的东西。
这对国内真正搞科研的科研工作者来说，并不是好事。
当然，在研发光刻机这件事上，总归是一直向好的。
最近，科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术，仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。
在光刻机软硬件不变的情况下，采用数学模型和软件算法对照明模式、掩模图形与工艺参数等进行优化，可有效提高光刻分辨率、增工艺窗口，此类技术即计算光刻技术（Computational Lithography）。该技术被认为是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。
未来几年时间里，国内的芯片厂商想要制造芯片，还是得以海外光刻机为主，这也是中芯国际不能给华为代工的原因。
但是我们从未放慢脚步，上海微电子、中科院、以及更多在这条阵线上奋斗的人们，都在不懈努力。
道阻虽长，吾亦往矣。
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