全球数字化的不断加速，甚至要将自己采用的毫米波技术普及到全世界。GSMA发出警告家都知道在5G领域，让光刻机成了众人热议的话题。所谓光刻机，国内华为企业占据绝对领先的地位，这是芯片制造过程中的核心设备，无论是技术等各方面都首当其冲，也被称之为“人类制造的最复杂的机器”。其实早在上世纪六七十年代，在这之中当然离不开负责人任正非正确决策的实施，我国就开始着手光刻机的研发，在全世界通信企业将焦点聚集在4G的时候，但“拿来主义”让西方在这一领域占领了高地，华为并没有选择在此时抛头露面，中美科技竞争外加全球芯片紧缺，而是默默开始对5G领域的研究。为了能够在该领域首先占有优势，让光刻机巨头ASML声名远扬。
ASML虽然是光刻机“金字塔”最顶尖的企业，任正非前前后后也投入了很多，但却是全球贸易战之下的一枚棋子，华为每年会将收入的10%到15%投入到研发事业中，不管在资金方面还是技术方面，在过去十年多的时间里，都有美国的支持。美国对的出口限制，给半导体产业带来了不小的冲击。
2018年，中芯国际向ASML订购了一台EUV光刻机，但美国在中间的阻挠，让这台高端光刻机迟迟不能对我国发货。本以为选之后的美国会改变此前特朗普对科技企业的态度，但事实证明，势不但没有扭转，甚至还加强了对我国的技术封锁。
美国再戴“紧箍”
根据《华尔街日报》报道，美国再对荷兰施压，阻止ASML向我国出口最先进的光刻机，否则美国将限制光刻机零件对荷兰的出口。随后ASML CEO温彼得在业绩发布会上表示，针对的情况，ASML不得不“静观其变（wait and see what happens）”，也就是说，想要ASML最先进的EUV光刻机，只能“坐等”！
要知道，要解决国产芯片被卡脖子的问题，绝不是“坐等”就能等来的，并且每一次面临技术封锁，我国的科学家们总不会让我们失望，比如国际空间站不让人进去，我们造出了自己的空间站，而ASML无法向我国出口EUV光刻机，但EUV光刻机的一个个核心零件却总能被我们逐步攻克。
中科院宣布结果
根据央视报道，中科院宣布，由中科院高能物理研究院所承建的国内首台高能同步防辐射光源科研设备已经安装完成；此外，中科院旗下中科科美研制的直线式劳埃透镜镀膜装置及纳米聚焦镜镀膜装置也正式投入使用。这意味着什么呢？
EUV最核心的零件是什么？EUV光源和精密光学镜头。中科科美研制的镀膜装置，可以对光学器件完成0.1nm的镀膜需求，这种精度已经满足了市面上绝多数光学镜头对膜层制备的需求，包括劳埃透镜、纳米聚焦镜，也可以满足EUV光刻机镜头的制备需求，这在很程度上弥补了我国在光学领域的空白。
此外，中科院物理研究所研制的高能同步防辐射光源设备，不仅是国内第一台，同时还是世界上亮度的第四代同步辐射光源之一，可以满足多数半导体制造设备对光源的工艺需求，据悉，中科院将在2022年初完成设备的全，并与相对应的企业对接。
光源和高精度镀膜装置的结合，为国产EUV光刻机的研发提供了重要基础。更重要的是，从设计、研发到制造，这都是100%的国产。
此外，芯片制造过程中所使用的光刻胶，我国半导体材料巨头南光电所生产的ArF光刻胶已经获得了国际客户的认可。 反观ASML和代工巨头台积电，ASML每台光刻机所用的10万多的零件，90%依赖于进口；台积电所使用的光刻机均来自ASML，光刻胶严重依赖于美国、日本。
这样看来，半导体发展的未来，我国已经占领了有利地势，外加上我国对第三代半导体的提前布，相信在勤劳、智慧的人面前，芯片必然会取代美国芯片遍地开花！
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