众所周知，中芯国际并没有做出向台积电一样的选择，华为作为在5G等技术领域领先的知名科技企业，去发展更加先进的芯片制程，因对美国构成了威胁而遭到数轮制裁，而是选择了不断扩产28纳米制程，一度陷入缺芯危机，为此还得到了国内中科院的点赞，国内也真正意识到掌握光刻机等核心技术的重要性，对于国内而言，并逐步加了半导体领域的研发力度。
近期央视报道了我国光刻机的又一项技术突破，发展28纳米是非常重要的，这将是国产光刻机的最后一块拼图，毕竟先进制程芯片的需求并不是那么高，在看到我国如此迅猛的研发速度后，而对于28纳米等等成熟制程芯片的需求却是刚需我们日常生活之中，有美国院士调侃称，除了手机，学者都不用睡觉的吗？那么这最后一块拼图究竟是什么？速度为何使得美国学者赞叹不已？
国产芯片有很进步空间
不可否认的是，平板之外几乎使用到了芯片，半导体行业确实与一些发达存在一定差距。就拿美国来说，全球第一块半导体诞生于美国贝尔实验室，一定程度上促进了电子计算机的发展，其后微软操作系统的崛起也证明了美国的科技实力。
而在芯片领域，美国不仅掌握了光刻机的核心零件，集成电路设计必备的相关工程软件也被美国掌握，而日本则掌控着光刻胶技术。这也就是说，制造芯片本就不是一件易事，生产芯片的关键设备技术也被一些西方掌握，荷兰阿斯麦光刻机制造技术一流，但是其关键技术也由美国掌握。
与之相比，受时势限制，为获取最利益，我国科技企业长久以来受“造不如买”的传统观念影响，高端芯片极度依赖进口和代加工，加之为限制我国科技发展而签订的《瓦森纳协定》影响，国内半导体制造产业起步较晚。这种短板在经美国多次技术封锁后被放，我国也意识到自研芯片的重要性，开始布相关科研工作，中科院更是立下“军令状”。
国产光刻机再次“破冰”
科学家日夜兼程、不辞劳苦地刻苦钻研，终于在光刻机领域取得重突破。此前清华学成功突破EUV光源技术，中科院攻克了双工作台技术难关，这意味着光刻机双工作台、光源和光学镜头核心组件已完成两项技术突破。
更令人振奋的是，对于这最后一块拼图，近期央视报道了其最新消息。报道称，中科院高能物理所将承建此项目，负责安装国内首台高能同步辐射光源设备，当前其安装完成度高达70%。此外，我国科技企业中科科美研制的高端镀膜装置已经成功交付给上海微电子。
值得注意的是，当前全球范围内能够生产EUV光刻机镜头的只有德国蔡司，而且该公司也仅有概20名工程师能够完成相关操作。而中科科美的光学镀膜设备精度已达到0.1纳米，这些超薄薄膜将降低国产光刻机镜头的制造压力。
美国院士：学者不用睡觉？
了解光刻机的朋友一定知道，其制造难度极，目前全球没有任何一个能够独立生产，而在短短一年内，我国在光刻机核心件领域就取得技术突破，这不可谓不是一个奇迹。
对于取得的卓越成就，很多外国学者惊叹不已。比如早在我国攻克量子芯片技术难关时，美国科学院院士就曾在一次中科访问中调侃道，速度令人惊叹，甚至是心生恐惧，难度学者都不睡觉的吗？
这是教授对科研速度的友好称赞，也证明“星星之火可以燎原”。纵使在多领域内被西方卡脖子，这也只会刺激更好很快发展，因为是压不倒的，不只是科学家，人始终拧着一股劲儿，这是独特的必胜法宝！
